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EnglishRecombination lifetime profiling in very thin Si epitaxial layers used for bipolar VLSI / P.SPIRITO; S.BELLONE; C.RANSOM; G. BUSATTO; G.COCORULLO. - In: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. - ISSN 0741-3106. - EDL-10(1989), pp. 23-24.
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| Titolo: | Recombination lifetime profiling in very thin Si epitaxial layers used for bipolar VLSI |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 1989 |
| Rivista: | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11580/5551 |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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http://hdl.handle.net/11580/5551
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